上海微电28nm光刻机
@商奚877：28nm光刻机能刻多少纳米芯片
罗汪18240104366…… 28nm光刻机虽然与世界先进的5nm或者7nm还有差距,除了一些手机,pc高端芯片做不了,一些通用类的还是可以满足,从理论上来说28nm光刻机能做到7nm,但实际上是难以做到把性能都发挥的.淋漓尽致
@商奚877：现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 -
罗汪18240104366…… 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术 芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
@商奚877：中国哪家的光刻机功能,性能最好?
罗汪18240104366…… 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
@商奚877：说中国的半导体芯片是28纳米与10纳米相比差3代啥意思 -
罗汪18240104366…… 这个三代定义很模糊,但是大致上28-20-14-10nm,这就是三代了. 具体的话,其实从整体上讲,就是差了深紫外到极紫外光刻机技术的一个大代
@商奚877：最新超算第一名“神威太湖之光”到底有多强 -
罗汪18240104366…… “神威太湖之光”超算拥有40960个计算节点,使用了上海高性能集成电路设计中心设计的国产众核芯片申威26010,采用28nm制程工艺,主频1.45G,拥有260个核心,双精浮点峰值高达3.06TFlops,在双精浮点上完全追平了Intel最好的超算芯...
@商奚877：多少工艺节点以上用OCV以下用AOCV/POCV? -
罗汪18240104366…… 移知工程师为您解答: 一般来说,在tsmc 28nm及更先进的工艺下就需要用AOCV,当然这也取决于工艺的PDK是否提供了AOCV table,如果没有,那也只能用OCV来替代了,会比较悲观. POCV,目前看起来在7nm上用的最多,其他工艺节点<28nm 用POCV的比较少,大部分还是AOCV,有时候会跟这个工艺的特性有关,譬如GF22nm的在低电压下用POCV,高电压AOCV. 目标还是更好地模拟实际芯片的timing,以求更高的良率 (更多详情请搜索移知,有专门的IC行业问答专区和视频)
@商奚877：骁龙652对比骁龙msm8976 哪个好 -
罗汪18240104366…… 测试文章 骁龙650/652在工艺上依旧比骁龙615等前辈先进.简单来说,台积电(TSMC)针对移动处理器而定制的28nm工艺又被细分为LP、HPM和HPL三种.骁龙615等前辈所采用的具体是28nm LP(Low Power,低功耗)工艺,而LP则是台积...
@商奚877：光刻机中国能造吗?
罗汪18240104366…… 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
@商奚877：手机上的芯片40,28,20,16nm是什么意思 -
罗汪18240104366…… 这个是芯片的工艺信息,28nm就是说这些金属线只有28纳米粗细,每两条线的间距也是28纳米大小.目前台式最高技术是22nm,移动的就是你看的这个28nm. 科普一下: 1.目前认为金属线越细,CPU能达到的频率就越高,或者zd同频率下耗电和发热就越低. 2.线越细,同等面积下能安放的电路就越多,或者同等功能的CPU面积就越小. 手机芯片就是向小而精,低功耗,长待机发展的. 似乎是10nm以下时有个什么电子偏移之类的技术难题还没攻克,不过那不是咱考虑的范畴了.
@商奚877：中芯国际发展的咽喉,28nm HKMG制程良率到底有没有救 -
罗汪18240104366…… 骁龙616官方确认使用中芯国际28nmHKMG工艺制造,但遗憾的是仍然是LP工艺i,漏电仍是诟病.中芯刚刚建立产线,HPM技术尚待研究中,还未引进! GPU是A405, 616处理器:采用八个Cortex-A53架构核心,四核ARM Cortex A53+ 1.7GHz和四核 A53 1.2GHz,集成GPU部分为A405,550 MHz ,59.4Gflops
罗汪18240104366…… 28nm光刻机虽然与世界先进的5nm或者7nm还有差距,除了一些手机,pc高端芯片做不了,一些通用类的还是可以满足,从理论上来说28nm光刻机能做到7nm,但实际上是难以做到把性能都发挥的.淋漓尽致
@商奚877：现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 -
罗汪18240104366…… 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术 芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
@商奚877：中国哪家的光刻机功能,性能最好?
罗汪18240104366…… 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
@商奚877：说中国的半导体芯片是28纳米与10纳米相比差3代啥意思 -
罗汪18240104366…… 这个三代定义很模糊,但是大致上28-20-14-10nm,这就是三代了. 具体的话,其实从整体上讲,就是差了深紫外到极紫外光刻机技术的一个大代
@商奚877：最新超算第一名“神威太湖之光”到底有多强 -
罗汪18240104366…… “神威太湖之光”超算拥有40960个计算节点,使用了上海高性能集成电路设计中心设计的国产众核芯片申威26010,采用28nm制程工艺,主频1.45G,拥有260个核心,双精浮点峰值高达3.06TFlops,在双精浮点上完全追平了Intel最好的超算芯...
@商奚877：多少工艺节点以上用OCV以下用AOCV/POCV? -
罗汪18240104366…… 移知工程师为您解答: 一般来说,在tsmc 28nm及更先进的工艺下就需要用AOCV,当然这也取决于工艺的PDK是否提供了AOCV table,如果没有,那也只能用OCV来替代了,会比较悲观. POCV,目前看起来在7nm上用的最多,其他工艺节点<28nm 用POCV的比较少,大部分还是AOCV,有时候会跟这个工艺的特性有关,譬如GF22nm的在低电压下用POCV,高电压AOCV. 目标还是更好地模拟实际芯片的timing,以求更高的良率 (更多详情请搜索移知,有专门的IC行业问答专区和视频)
@商奚877：骁龙652对比骁龙msm8976 哪个好 -
罗汪18240104366…… 测试文章 骁龙650/652在工艺上依旧比骁龙615等前辈先进.简单来说,台积电(TSMC)针对移动处理器而定制的28nm工艺又被细分为LP、HPM和HPL三种.骁龙615等前辈所采用的具体是28nm LP(Low Power,低功耗)工艺,而LP则是台积...
@商奚877：光刻机中国能造吗?
罗汪18240104366…… 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
@商奚877：手机上的芯片40,28,20,16nm是什么意思 -
罗汪18240104366…… 这个是芯片的工艺信息,28nm就是说这些金属线只有28纳米粗细,每两条线的间距也是28纳米大小.目前台式最高技术是22nm,移动的就是你看的这个28nm. 科普一下: 1.目前认为金属线越细,CPU能达到的频率就越高,或者zd同频率下耗电和发热就越低. 2.线越细,同等面积下能安放的电路就越多,或者同等功能的CPU面积就越小. 手机芯片就是向小而精,低功耗,长待机发展的. 似乎是10nm以下时有个什么电子偏移之类的技术难题还没攻克,不过那不是咱考虑的范畴了.
@商奚877：中芯国际发展的咽喉,28nm HKMG制程良率到底有没有救 -
罗汪18240104366…… 骁龙616官方确认使用中芯国际28nmHKMG工艺制造,但遗憾的是仍然是LP工艺i,漏电仍是诟病.中芯刚刚建立产线,HPM技术尚待研究中,还未引进! GPU是A405, 616处理器:采用八个Cortex-A53架构核心,四核ARM Cortex A53+ 1.7GHz和四核 A53 1.2GHz,集成GPU部分为A405,550 MHz ,59.4Gflops
