从光刻机开始
@子彩3868：光刻机的发展历史 -
曲别15930179312…… 光刻技术的发展1947年,贝尔实验室发明第一只点接触晶体管.从此光刻技术开始了发展.1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片.1960年代,仙童提出CMs|C制造工艺,第一...
@子彩3868：光刻机工作原理 -
曲别15930179312…… 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
@子彩3868：光刻机怎么制作(最好提供图文)? -
曲别15930179312…… 第一步:制作光刻掩膜版(Mask Reticle) 芯片设计师将CPU的功能、结构设计图绘制完毕之后,就可将这张包含了CPU功能模块、电路系统等物理结构的“地图”绘制在“印刷母板”上,供批量生产了.这一步骤就是制作光刻掩膜版. 光刻...
@子彩3868：光刻机和刻蚀机的区别 -
曲别15930179312…… 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...
@子彩3868：光刻机是怎样将电路刻在硅晶上的 -
曲别15930179312…… 不用模板 用的是紫外线刻蚀 “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射.原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀.“刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形.然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路.
@子彩3868：我国一直被西方卡脖子的领域你知道是什么吗? -
曲别15930179312…… 芯片领域,芯片领域在当今社会是非常重要的一个领域之一,毕竟进入到了科技时代,科技发展的背后就是以芯片为中心的变革.但是我国在芯片领域的发展,是远远比不上西方国家的,虽然国产芯片的质量水平也愈发的稳定,可是如果从整体的角度来看,和西方国家的差距也并不是一星半点的
@子彩3868：我们国家有大批科研人员,为什么不能制造出光刻机? -
曲别15930179312…… 因为想要研究出光刻机需要芯片,再加上我们国家的科技水平还没有达到这样的高度,同时技术也面临着很多问题和难题,很难克服,短时间之内还能找到出发点,但是未来的十年或者是50年,有可能会制造出来这样的机器.
@子彩3868：光刻作用? -
曲别15930179312…… 简单的讲,就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来.利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的wafer曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到wafer上. 这就是光刻的作用,类似照相机照相.
@子彩3868：光刻机最难攻克的技术
曲别15930179312…… 光刻机的难点是“技术封锁”,光刻机的关键部件来自不同的发达国家,美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承等,关键是这些顶级零件对我国是禁运的.我国的中芯国际早在2017年就预订了一台ASML的7nm制程工艺的光刻机,由于很多原因,至今仍未收到货,可以说“有钱也买不到”.
@子彩3868：中国突破光刻机意味着什么? -
曲别15930179312…… 国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机,结合多重曝光技术,可以用于制备1以下的信息器件.这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革,也将加快推进工业4.0,实现中国制造2025的美好愿景.长期...
曲别15930179312…… 光刻技术的发展1947年,贝尔实验室发明第一只点接触晶体管.从此光刻技术开始了发展.1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片.1960年代,仙童提出CMs|C制造工艺,第一...
@子彩3868：光刻机工作原理 -
曲别15930179312…… 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
@子彩3868：光刻机怎么制作(最好提供图文)? -
曲别15930179312…… 第一步:制作光刻掩膜版(Mask Reticle) 芯片设计师将CPU的功能、结构设计图绘制完毕之后,就可将这张包含了CPU功能模块、电路系统等物理结构的“地图”绘制在“印刷母板”上,供批量生产了.这一步骤就是制作光刻掩膜版. 光刻...
@子彩3868：光刻机和刻蚀机的区别 -
曲别15930179312…… 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...
@子彩3868：光刻机是怎样将电路刻在硅晶上的 -
曲别15930179312…… 不用模板 用的是紫外线刻蚀 “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射.原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀.“刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形.然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路.
@子彩3868：我国一直被西方卡脖子的领域你知道是什么吗? -
曲别15930179312…… 芯片领域,芯片领域在当今社会是非常重要的一个领域之一,毕竟进入到了科技时代,科技发展的背后就是以芯片为中心的变革.但是我国在芯片领域的发展,是远远比不上西方国家的,虽然国产芯片的质量水平也愈发的稳定,可是如果从整体的角度来看,和西方国家的差距也并不是一星半点的
@子彩3868：我们国家有大批科研人员,为什么不能制造出光刻机? -
曲别15930179312…… 因为想要研究出光刻机需要芯片,再加上我们国家的科技水平还没有达到这样的高度,同时技术也面临着很多问题和难题,很难克服,短时间之内还能找到出发点,但是未来的十年或者是50年,有可能会制造出来这样的机器.
@子彩3868：光刻作用? -
曲别15930179312…… 简单的讲,就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来.利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的wafer曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到wafer上. 这就是光刻的作用,类似照相机照相.
@子彩3868：光刻机最难攻克的技术
曲别15930179312…… 光刻机的难点是“技术封锁”,光刻机的关键部件来自不同的发达国家,美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承等,关键是这些顶级零件对我国是禁运的.我国的中芯国际早在2017年就预订了一台ASML的7nm制程工艺的光刻机,由于很多原因,至今仍未收到货,可以说“有钱也买不到”.
@子彩3868：中国突破光刻机意味着什么? -
曲别15930179312…… 国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机,结合多重曝光技术,可以用于制备1以下的信息器件.这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革,也将加快推进工业4.0,实现中国制造2025的美好愿景.长期...
