光刻机中国能做到几纳米
@凌苇3306：中国的芯片,距离世界最先进水平到底有多大差距 -
吉珠15630319025…… 中国芯片制造技术最大的短板是光克,据说目前国内自己能生产的最先进的光克机是90纳米的,只相当于2000年左右英特尔刚推出奔腾4处理的工艺水平,而最先进的光克机是荷兰的,已经可以做到10纳米以内了.目前由于技术封锁荷兰最先进的光克机不卖给中国,只有中低端,目前汰态的才卖给中国,据说是三四十纳米的水平,所以中国要想制造最先进的芯片,必须依靠自己研发,目前还有相当的差距.
@凌苇3306：芯片里的集成电路是人工做的还是机器做的还是怎么做的? -
吉珠15630319025…… 一个小芯片里拥有成千上万至百万个元件!这已早就不是人工能做到的事了!集成电路的生产线早就是自动化程度很高的了!我们常说的自动生产线上的机器人早就是其成员了!
@凌苇3306：现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 -
吉珠15630319025…… 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术 芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
@凌苇3306：28nm光刻机能刻多少纳米芯片
吉珠15630319025…… 28nm光刻机虽然与世界先进的5nm或者7nm还有差距,除了一些手机,pc高端芯片做不了,一些通用类的还是可以满足,从理论上来说28nm光刻机能做到7nm,但实际上是难以做到把性能都发挥的.淋漓尽致
@凌苇3306：光刻机中国能造吗?
吉珠15630319025…… 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
@凌苇3306：中国最先进手机芯片为几纳米?
吉珠15630319025…… 目前中国最先进的手机芯片为5纳米(截至2021年),是华为的麒麟9000 5G SoC芯片.其次就是紫光展锐推出的唐古拉T770芯片,该芯片定位中低端手机市场,基于6nm...
@凌苇3306：光刻机是哪个国家生产的?
吉珠15630319025…… 在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,荷兰ASML公司占据着全球80%的市场份额,几乎处于垄断地位.除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康和佳能,中国的代表企业是上海微电子(SMEE).光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机.高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造.国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主.
@凌苇3306：尼康光刻机做到多少nm了 -
吉珠15630319025…… 据说可以做到5纳米,3纳米在研发中. 接下来向皮米级进军.
@凌苇3306：中国哪家的光刻机功能,性能最好?
吉珠15630319025…… 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
@凌苇3306：光刻机的性能指标 -
吉珠15630319025…… 光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等. 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式. 光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制. 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度. 曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式. 曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等.
吉珠15630319025…… 中国芯片制造技术最大的短板是光克,据说目前国内自己能生产的最先进的光克机是90纳米的,只相当于2000年左右英特尔刚推出奔腾4处理的工艺水平,而最先进的光克机是荷兰的,已经可以做到10纳米以内了.目前由于技术封锁荷兰最先进的光克机不卖给中国,只有中低端,目前汰态的才卖给中国,据说是三四十纳米的水平,所以中国要想制造最先进的芯片,必须依靠自己研发,目前还有相当的差距.
@凌苇3306：芯片里的集成电路是人工做的还是机器做的还是怎么做的? -
吉珠15630319025…… 一个小芯片里拥有成千上万至百万个元件!这已早就不是人工能做到的事了!集成电路的生产线早就是自动化程度很高的了!我们常说的自动生产线上的机器人早就是其成员了!
@凌苇3306：现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 -
吉珠15630319025…… 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术 芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
@凌苇3306：28nm光刻机能刻多少纳米芯片
吉珠15630319025…… 28nm光刻机虽然与世界先进的5nm或者7nm还有差距,除了一些手机,pc高端芯片做不了,一些通用类的还是可以满足,从理论上来说28nm光刻机能做到7nm,但实际上是难以做到把性能都发挥的.淋漓尽致
@凌苇3306：光刻机中国能造吗?
吉珠15630319025…… 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
@凌苇3306：中国最先进手机芯片为几纳米?
吉珠15630319025…… 目前中国最先进的手机芯片为5纳米(截至2021年),是华为的麒麟9000 5G SoC芯片.其次就是紫光展锐推出的唐古拉T770芯片,该芯片定位中低端手机市场,基于6nm...
@凌苇3306：光刻机是哪个国家生产的?
吉珠15630319025…… 在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,荷兰ASML公司占据着全球80%的市场份额,几乎处于垄断地位.除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康和佳能,中国的代表企业是上海微电子(SMEE).光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机.高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造.国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主.
@凌苇3306：尼康光刻机做到多少nm了 -
吉珠15630319025…… 据说可以做到5纳米,3纳米在研发中. 接下来向皮米级进军.
@凌苇3306：中国哪家的光刻机功能,性能最好?
吉珠15630319025…… 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
@凌苇3306：光刻机的性能指标 -
吉珠15630319025…… 光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等. 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式. 光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制. 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度. 曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式. 曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等.
