国产最先进光刻机多少纳米
@双印5616：现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 -
红志13155004093…… 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术 芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
@双印5616：中国的芯片,距离世界最先进水平到底有多大差距 -
红志13155004093…… 中国芯片制造技术最大的短板是光克,据说目前国内自己能生产的最先进的光克机是90纳米的,只相当于2000年左右英特尔刚推出奔腾4处理的工艺水平,而最先进的光克机是荷兰的,已经可以做到10纳米以内了.目前由于技术封锁荷兰最先进的光克机不卖给中国,只有中低端,目前汰态的才卖给中国,据说是三四十纳米的水平,所以中国要想制造最先进的芯片,必须依靠自己研发,目前还有相当的差距.
@双印5616：中国哪家的光刻机功能,性能最好?
红志13155004093…… 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
@双印5616：3纳米光刻机研究了多久
红志13155004093…… 已经研究了四十多年!但距世界先进水平还有很大差距,之所以存在这个问题,是综合国力问题,1977年我国正处于改革开放前夕,虽然在科研方面我国成功研发出了第一台接触式光刻机,但是综合国力尚且还很薄弱,国家处于转弯阶段,从政策到力量到支持都不足以支撑光刻机技术继续研发下去.
@双印5616：中国突破光刻机意味着什么? -
红志13155004093…… 国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机,结合多重曝光技术,可以用于制备1以下的信息器件.这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革,也将加快推进工业4.0,实现中国制造2025的美好愿景.长期...
@双印5616：中国何时能造出来自己的光刻机? -
红志13155004093…… 现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是ASML的5纳米光刻机.这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中,超过100000万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物.而且这10万个零件之中,精密仪器、顶级光源、超稳定轴承和计量器一个都不少.它们分别来自全球各个国家,包括日本、德国和美国.而其中,美国为光刻机提供的基础零件其实也比较多,正因如此他们才能如此硬气的要求芯片代加工厂商禁止向华为输出产品.
@双印5616：华为mate7和魅族mx4哪个质量好 -
红志13155004093…… mate7我在用,mx4我朋友在用·· 相差一个星期入手,用了一个多月了,他已经后悔了··他还买了2100元· 不过在我看来MX4,也没那么差,普通正常的使用··也还是可以的··
@双印5616：中国的芯片什么时候能实现国产呢?! -
红志13155004093…… 国产芯片水平只能实现90纳米.从芯片制造环节看,光刻机、蚀刻机、晶圆、光刻胶等设备和材料占比很大.其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米.高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依...
红志13155004093…… 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术 芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
@双印5616：中国的芯片,距离世界最先进水平到底有多大差距 -
红志13155004093…… 中国芯片制造技术最大的短板是光克,据说目前国内自己能生产的最先进的光克机是90纳米的,只相当于2000年左右英特尔刚推出奔腾4处理的工艺水平,而最先进的光克机是荷兰的,已经可以做到10纳米以内了.目前由于技术封锁荷兰最先进的光克机不卖给中国,只有中低端,目前汰态的才卖给中国,据说是三四十纳米的水平,所以中国要想制造最先进的芯片,必须依靠自己研发,目前还有相当的差距.
@双印5616：中国哪家的光刻机功能,性能最好?
红志13155004093…… 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
@双印5616：3纳米光刻机研究了多久
红志13155004093…… 已经研究了四十多年!但距世界先进水平还有很大差距,之所以存在这个问题,是综合国力问题,1977年我国正处于改革开放前夕,虽然在科研方面我国成功研发出了第一台接触式光刻机,但是综合国力尚且还很薄弱,国家处于转弯阶段,从政策到力量到支持都不足以支撑光刻机技术继续研发下去.
@双印5616：中国突破光刻机意味着什么? -
红志13155004093…… 国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机,结合多重曝光技术,可以用于制备1以下的信息器件.这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革,也将加快推进工业4.0,实现中国制造2025的美好愿景.长期...
@双印5616：中国何时能造出来自己的光刻机? -
红志13155004093…… 现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是ASML的5纳米光刻机.这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中,超过100000万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物.而且这10万个零件之中,精密仪器、顶级光源、超稳定轴承和计量器一个都不少.它们分别来自全球各个国家,包括日本、德国和美国.而其中,美国为光刻机提供的基础零件其实也比较多,正因如此他们才能如此硬气的要求芯片代加工厂商禁止向华为输出产品.
@双印5616：华为mate7和魅族mx4哪个质量好 -
红志13155004093…… mate7我在用,mx4我朋友在用·· 相差一个星期入手,用了一个多月了,他已经后悔了··他还买了2100元· 不过在我看来MX4,也没那么差,普通正常的使用··也还是可以的··
@双印5616：中国的芯片什么时候能实现国产呢?! -
红志13155004093…… 国产芯片水平只能实现90纳米.从芯片制造环节看,光刻机、蚀刻机、晶圆、光刻胶等设备和材料占比很大.其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米.高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依...
