离子注入机和光刻机
@贲彦5262：集成电路生产设备 -
祖呢13623692191…… 离子注入机,光刻机,CMP机,等,整个生产线可能几百万到几亿不等,小尺寸工艺的更贵.
@贲彦5262：什么是离子注入?什么是离子注入机? -
祖呢13623692191…… 当真空中有一束离子束射向一块固体材料时,离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面,这个现象叫做溅射;而当离子束射到固体材料时,从固体材料表面弹了回来,或者穿出固体材料而去,这些现象叫做散射;另外有一种现象是,离...
@贲彦5262：光刻机的介绍 -
祖呢13623692191…… 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
@贲彦5262：半导体材料中,离子注入与离子掺杂有什么区别? -
祖呢13623692191…… 离子注入是离子参杂的一种. 随着VLSI器件的发展,到了70年代,器件尺寸不断减小,结深降到1um以下,扩散技术有些力不从心.在这种情况下,离子注入技术比较好的发挥其优势.目前,结深小于1um的平面工艺,基本都采用离子注入技术...
@贲彦5262：离子注入机是将所需离子经过加速、选择、扫描从而将离子“注入”半导体材料的设备.其整个系统如甲图所示.其工作原理简化图如乙图所示.MN是理想平行... - 作业帮
祖呢13623692191…… [答案] (1)粒子在电场中加速,由动能定理得: q* 1 2U0= 1 2mv2, 解得:v= qU0m; (2)粒子从D点射出时,设半径为r,所加电压为... ＂:{id:＂43ce95234ec8e061f222a710db3791bd＂,title:＂离子注入机是将所需离子经过加速、选择、扫描从而将离子“注...
@贲彦5262：光刻机的性能指标 -
祖呢13623692191…… 光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等. 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式. 光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制. 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度. 曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式. 曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等.
@贲彦5262：半导体芯片生产设备都有什么 -
祖呢13623692191…… 光刻机的主流应该是NIKON;Coater\Develop的主流应该是 TEL和DNS.
@贲彦5262：光刻机中国能造吗?
祖呢13623692191…… 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
@贲彦5262：光刻机和刻蚀机的区别 -
祖呢13623692191…… 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...
祖呢13623692191…… 离子注入机,光刻机,CMP机,等,整个生产线可能几百万到几亿不等,小尺寸工艺的更贵.
@贲彦5262：什么是离子注入?什么是离子注入机? -
祖呢13623692191…… 当真空中有一束离子束射向一块固体材料时,离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面,这个现象叫做溅射;而当离子束射到固体材料时,从固体材料表面弹了回来,或者穿出固体材料而去,这些现象叫做散射;另外有一种现象是,离...
@贲彦5262：光刻机的介绍 -
祖呢13623692191…… 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
@贲彦5262：半导体材料中,离子注入与离子掺杂有什么区别? -
祖呢13623692191…… 离子注入是离子参杂的一种. 随着VLSI器件的发展,到了70年代,器件尺寸不断减小,结深降到1um以下,扩散技术有些力不从心.在这种情况下,离子注入技术比较好的发挥其优势.目前,结深小于1um的平面工艺,基本都采用离子注入技术...
@贲彦5262：离子注入机是将所需离子经过加速、选择、扫描从而将离子“注入”半导体材料的设备.其整个系统如甲图所示.其工作原理简化图如乙图所示.MN是理想平行... - 作业帮
祖呢13623692191…… [答案] (1)粒子在电场中加速,由动能定理得: q* 1 2U0= 1 2mv2, 解得:v= qU0m; (2)粒子从D点射出时,设半径为r,所加电压为... ＂:{id:＂43ce95234ec8e061f222a710db3791bd＂,title:＂离子注入机是将所需离子经过加速、选择、扫描从而将离子“注...
@贲彦5262：光刻机的性能指标 -
祖呢13623692191…… 光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等. 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式. 光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制. 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度. 曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式. 曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等.
@贲彦5262：半导体芯片生产设备都有什么 -
祖呢13623692191…… 光刻机的主流应该是NIKON;Coater\Develop的主流应该是 TEL和DNS.
@贲彦5262：光刻机中国能造吗?
祖呢13623692191…… 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
@贲彦5262：光刻机和刻蚀机的区别 -
祖呢13623692191…… 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...
