半导体薄膜沉积设备
@鲁都1545：CVD设备主要包括哪些设备? -
俞骂13916145224…… 半导体CVD设备是用于进行半导体材料制备的化学气相沉积(CVD)过程的专用设备.这些设备通常具有以下主要组成部分:1. 反应室(Reaction Chamber):这是进行化学反应和薄膜沉积的主要区域.反应室通常由高温耐受材料构成,以容...
@鲁都1545：拓荆科技是国企吗
俞骂13916145224…… 拓荆科技股份有限公司不是国企,企业类型是股份有限公司,所属行业是专用设备制造业,所属地区是辽宁省.公司主要从事电子专用设备制造、电子专用设备销售、半导...
@鲁都1545：最近在调研ALD原子层沉积设备,请问大家有没有推荐的品牌 -
俞骂13916145224…… 作为一种高度可精准控制的材料制备方法,原子层沉积(ALD)技术目前已成为半导体芯片、柔性显示、太阳能电池及锂电池等领域中最热门的薄膜材料沉积技术.由于国内缺少相关的关键技术,ALD设备被国外设备大厂垄断,国内ALD量产设备制造企业几乎空白.随着国外先进技术的引进和国内自主研发的不断推进,国内出现了在技术水平上能跟国外技术相媲美的ALD设备制造厂商,如深圳市原速光电科技有限公司.原速光电推出了研发型和生产型的Exploiter系列原子层沉积系统,性能指标优越,加上全方位的材料工艺研发和材料制备服务,足以满足用户的使用需求.有兴趣的可以进他们的官网进一步了解一下!
@鲁都1545：mocvd设备是干什么用的? -
俞骂13916145224…… MOCVD全名叫有机金属化学气象沉积设备,是在蓝宝石设备上生长GaN的薄膜的专用设备,GaN材料是化合物半导体材料的一种,它是用来做LED(发光二极管)的主要材料.
@鲁都1545：请问有人了解无锡诺发(novellus)半导体公司吗? -
俞骂13916145224…… 你是不是说的和上海浦东张江高科技园区的novellus 诺发是一家的吗?? 诺发系统成立于1984年,是化学气体沉积、物理气体沉积、铜电镀、光阻与残留物处理等半导体制程设备制造商.随着电路尺寸的持续缩小,采用诺发系统生产的薄膜沉...
@鲁都1545：集成电路HS
俞骂13916145224…… 税号 附加 商品名称1 商品名称2 归类说明 备注 85423300 00 用作放大器的集成电路 85366900 00 电压≤1000伏的插头及插座 集成电路插座 用于电压≤1000V 用于电压不超过1000伏的线路 85429000 00 其他集成电路及微电子组件零件 集成电路...
@鲁都1545：pvd包括哪些具体的沉积薄薄膜的方法 -
俞骂13916145224…… “物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术. 2. PVD镀膜和PVD镀膜机 — PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类, (有离子镀、磁控溅射镀、蒸发镀)
@鲁都1545：求助薄膜沉积PECVD问题 -
俞骂13916145224…… 那要看你是要沉积何种薄膜了,一般沉积二氧化硅薄膜的话还需要氮气、氨气、笑气等,至于比例,不同情况需要不同的工艺参数.沉积之后需要对腔体进行刻蚀,多使用干法刻蚀,气源为氧气和六氟乙烷.具体纯度应该是高纯的,我只知道高纯氮纯度需要达到99.995% 希望对你有帮助.
@鲁都1545：cvd是什么 -
俞骂13916145224…… 所谓CVD(Chemical Vapor Deposition化学气相沈淀)钻石是以一块天然钻裸石为母石,利用高纯度甲烷、加上氢、氮等气体辅助,在微波炉中以高压方式,让甲烷中与钻石一样的碳分子不断累积到钻石原石上,经过一层层增生,可形成大至10克拉之透明
俞骂13916145224…… 半导体CVD设备是用于进行半导体材料制备的化学气相沉积(CVD)过程的专用设备.这些设备通常具有以下主要组成部分:1. 反应室(Reaction Chamber):这是进行化学反应和薄膜沉积的主要区域.反应室通常由高温耐受材料构成,以容...
@鲁都1545：拓荆科技是国企吗
俞骂13916145224…… 拓荆科技股份有限公司不是国企,企业类型是股份有限公司,所属行业是专用设备制造业,所属地区是辽宁省.公司主要从事电子专用设备制造、电子专用设备销售、半导...
@鲁都1545：最近在调研ALD原子层沉积设备,请问大家有没有推荐的品牌 -
俞骂13916145224…… 作为一种高度可精准控制的材料制备方法,原子层沉积(ALD)技术目前已成为半导体芯片、柔性显示、太阳能电池及锂电池等领域中最热门的薄膜材料沉积技术.由于国内缺少相关的关键技术,ALD设备被国外设备大厂垄断,国内ALD量产设备制造企业几乎空白.随着国外先进技术的引进和国内自主研发的不断推进,国内出现了在技术水平上能跟国外技术相媲美的ALD设备制造厂商,如深圳市原速光电科技有限公司.原速光电推出了研发型和生产型的Exploiter系列原子层沉积系统,性能指标优越,加上全方位的材料工艺研发和材料制备服务,足以满足用户的使用需求.有兴趣的可以进他们的官网进一步了解一下!
@鲁都1545：mocvd设备是干什么用的? -
俞骂13916145224…… MOCVD全名叫有机金属化学气象沉积设备,是在蓝宝石设备上生长GaN的薄膜的专用设备,GaN材料是化合物半导体材料的一种,它是用来做LED(发光二极管)的主要材料.
@鲁都1545：请问有人了解无锡诺发(novellus)半导体公司吗? -
俞骂13916145224…… 你是不是说的和上海浦东张江高科技园区的novellus 诺发是一家的吗?? 诺发系统成立于1984年,是化学气体沉积、物理气体沉积、铜电镀、光阻与残留物处理等半导体制程设备制造商.随着电路尺寸的持续缩小,采用诺发系统生产的薄膜沉...
@鲁都1545：集成电路HS
俞骂13916145224…… 税号 附加 商品名称1 商品名称2 归类说明 备注 85423300 00 用作放大器的集成电路 85366900 00 电压≤1000伏的插头及插座 集成电路插座 用于电压≤1000V 用于电压不超过1000伏的线路 85429000 00 其他集成电路及微电子组件零件 集成电路...
@鲁都1545：pvd包括哪些具体的沉积薄薄膜的方法 -
俞骂13916145224…… “物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术. 2. PVD镀膜和PVD镀膜机 — PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类, (有离子镀、磁控溅射镀、蒸发镀)
@鲁都1545：求助薄膜沉积PECVD问题 -
俞骂13916145224…… 那要看你是要沉积何种薄膜了,一般沉积二氧化硅薄膜的话还需要氮气、氨气、笑气等,至于比例,不同情况需要不同的工艺参数.沉积之后需要对腔体进行刻蚀,多使用干法刻蚀,气源为氧气和六氟乙烷.具体纯度应该是高纯的,我只知道高纯氮纯度需要达到99.995% 希望对你有帮助.
@鲁都1545：cvd是什么 -
俞骂13916145224…… 所谓CVD(Chemical Vapor Deposition化学气相沈淀)钻石是以一块天然钻裸石为母石,利用高纯度甲烷、加上氢、氮等气体辅助,在微波炉中以高压方式,让甲烷中与钻石一样的碳分子不断累积到钻石原石上,经过一层层增生,可形成大至10克拉之透明
